株式会社セルシス

セルシスは2009年から、筑波大学との産学連携の取り組みの一環として、「情報学群 組み込み技術キャンパスOJT」に協力企業として参加しています。
 

◆ キャンパスOJT 参加の目的

この取り組みでは、講義を通じて、当社の開発技術や保有特許、最先端の研究開発などの知見を共有し、学生に具体的なキャリアを考えるきっかけを提供することを目的としています。実際に、今後のキャリア形成の第一歩となるインターンシップへの参加にも繋がっています。

■ 情報学群 組み込み技術キャンパスOJT：https://www.cojt.or.jp/tkb/index.html
■ セルシスのインターンシップについて：https://www.celsys.com/recruit/id=533
 

◆ オープニングセレモニーへの参加

2025年4月の新年度に開催された、キャンパスOJTのオープニングセレモニーでは、学生、大学関係者、企業関係者が一堂に会しました。これは、学生と当社間の相互理解をより深め、今後の継続的な連携に向けた情報交換や、産学連携の意義を再確認する機会となりました。

▼オープニングセレモニーでの挨拶の様子（セルシス 取締役 / CTO 稲葉遼）

 

◆ 講義の実施

2025年10月、職場での実務による教育訓練を目的に、「CLIP STUDIO PAINT」の開発に携わったセルシスのエンジニアが学生に向けて、「『CLIP STUDIO PAINT』のブラシツールの仕組み」についての講義を行いました。

質疑応答では、講義の内容に関する専門性の高い質問や、ユーザーのニーズを把握する方法など、開発の背景までにわたる幅広い質問があり、熱心に受講する学生の姿が見られました。講義後に実施したアンケートでは、製品だけでなく当社に対しても関心の高い声が寄せられました。



また学期末には、大学関係者、学生、OB、企業関係者が聴講するキャンパスOJTの成果発表会が行われます。このような学生の学びの共有を次年度以降の取り組みにも活かしています。

当社は、こうした取り組みを通じて次世代人材の育成とクリエイティブ産業の発展に貢献していきます。

セルシスはCLIP STUDIO PAINTなどをはじめとした製品の改良を目的に、筑波大学 徳永研究室と共同研究を行っています。その取り組みの一つの成果として、2023年3月に提供開始した「CLIP STUDIO PAINT バージョン2.0」に、線画と塗りつぶした領域に自動で陰影を生成する「自動陰影」が新機能として搭載されました。

線画レイヤーと下塗りされたレイヤーがあるデータに自動で陰影を描画できます。また、光源の位置や角度、影の色を設定することで、より自然な陰影を描画できます。

提供開始時のニュースリリースはこちら
https://www.celsys.com/topic/20230314


その他に、アニメーションにおける彩色の効率化に関する技術の共同研究も行っています。

アニメーションの彩色の際「基本色・ハイライト色・影色」がセットになったデータを用意し、影用とハイライト用の2種類の色トレス線を使って塗り分けを指示し、1か所の色指定をするだけで、残りの領域が自動で彩色されます。

特許6580220
影・ハイライト領域の彩色方法

筑波大学 徳永研究室
https://www.chaos.cs.tsukuba.ac.jp/


セルシスは大学などをはじめとした各教育機関とも協力して技術連携や、インターンシップによる経験を通じた人材育成のサポートを行っています。